抛光系统核心
氩离子抛光系统的核心在于其先进的离子枪设计。该系统配备了两个低能量聚集能力的离子枪，能够在极低的能量水平（低至100eV）下进行抛光，这使得它特别适合对精细样品进行处理。这种低能量抛光方式能够在不损伤样品内部结构的前提下，快速去除表面缺陷，展现出卓越的抛光效率。
抛光前- 俯视SEM图样品 抛光90S后SEM图样品
系统的高效性得益于新型低能聚焦电极的运用。这种电极能够保证离子束直径的恒定，从而显著提高了抛光速率。同时，独立调节的离子枪设计赋予了系统精准对中的能力，确保离子束能够精确地作用于样品的指定位置。这种精准性对于制备高质量的分析样品至关重要，尤其是在电子背散射衍射（EBSD）等对样品表面质量要求极高的应用中。
氩离子抛光系统的操作灵活性也是其显著优势之一。操作者可以根据不同的样品和需求，随时调整离子枪的角度，并通过10英寸的触摸屏手动或自动调节气体流量以及优化工作电流。
技术参数
氩离子抛光系统的性能在多个关键参数上得到了充分体现。离子枪采用高性能三元构造，无需耗材，这不仅降低了使用成本，还提高了系统的稳定性和可靠性。
离子束能量的可调节范围从100 V至8.0 kV，覆盖了从精细抛光到快速去除材料的多种需求。
样品装载过程得到了优化，特制挡板的设计简化了装样步骤，同时确保了样品的重复使用性和位置准确性。
液氮冷台的最低温度可达-120°C，这一低温环境能够有效减少样品在抛光过程中的损伤，尤其适用于对温度敏感的材料。
氩离子应用领域
氩离子抛光系统的应用领域极为广泛，涵盖了材料科学的多个重要分支。在EBSD样品制备中，该系统能够提供高质量的样品表面，确保衍射信号的清晰获取，从而为材料的微观结构分析提供了可靠的基础。对于截面样品制备，氩离子抛光技术能够快速去除表面损伤层，展现出样品的真实内部结构，这对于材料失效分析和质量控制具有重要意义。
PCB电路版截面抛光SEM图
1.金属材料领域
在金属材料领域，氩离子抛光技术可以用于去除表面氧化层和加工痕迹，为后续的性能测试和微观分析做好准备。在石油地质岩石矿物的研究中，该技术能够揭示岩石的微观结构和矿物组成，为地质勘探和资源开发提供重要依据。
镀锌钢板截面抛光
2.光学、电学和力学领域
光电材料、化工高分子材料、新能源电池材料以及电子半导体器件的表面处理也是氩离子抛光系统的应用重点。通过对这些材料表面的精细加工，可以改善材料的光学、电学和力学性能，从而推动相关技术的发展和应用。
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