工作原理
- 电子源:场发射电镜采用场发射电子源,通过高电压使金属表面的电子克服表面势垒逸出,形成电子束。
- 电子光学系统:电子束通过电磁透镜和静电透镜聚焦,形成直径极小的电子探针。
- 扫描系统:电子束以光栅状扫描方式照射到样品表面。
- 信号检测:当电子束与样品相互作用时,会产生二次电子、背散射电子等信号,这些信号被探测器收集。
- 成像分析:信号被转换成图像,通过计算机处理和分析,得到样品的表面形貌和成分信息。
特点
- 高分辨率:由于场发射电子源具有较高的电子束密度和更好的聚焦性能,场发射电镜具有更高的分辨率,可观察到更细微的样品结构。
- 大景深:能够提供更立体的图像。
- 强信号稳定性:先进的电子光学系统保证了信号的稳定性。
- 简化的样品制备:样品制备相对简单,降低了样品的制备难度和成本。
- 多种信号检测:可采用多种信号检测方式,获得丰富的样品信息。
应用领域
场发射电镜广泛应用于材料科学、生物学、医学、地质矿物、产品生产质量控制、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析等领域。它在纳米材料粒径测试和形貌观察方面尤为有效。