光谱反射式膜厚、折射率测量仪器是一种利用光谱反射原理来测量薄膜厚度和折射率的设备。反射测量是通过分析从单层或多层薄膜结构反射回来的光强变化，来确定薄膜的厚度。在这个过程中，入射光以垂直的角度照射到样品表面。由于界面之间的干涉效应，反射光谱会发生变化，这些变化可以用来计算薄膜的厚度，无论是在透明、部分透明还是完全反射的基板上。
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反射式膜厚测量工作原理
通过光源发射光线，经过薄膜反射后，使用光谱仪测量反射光的光谱特性。由于不同厚度和折射率的薄膜会改变光的反射强度和相位，通过分析这些变化，可以计算出薄膜的厚度和折射率。
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反射式膜厚仪应用领域
广泛应用于半导体制造、平板显示、光学镀膜、太阳能电池等。在半导体制造中，反射式膜厚测量仪可以用于测量晶圆上的薄膜厚度，如二氧化硅、氮化硅等，以确保半导体器件的性能和可靠性。
在平板显示中，反射式膜厚测量仪可以用于测量液晶显示器、有机发光二极管等的薄膜厚度，以确保显示效果和质量。
在光学镀膜中，反射式膜厚测量仪可以用于测量光学镜片、滤光片等的薄膜厚度，以确保光学性能和质量。
在太阳能电池中，反射式膜厚测量仪可以用于测量太阳能电池板上的薄膜厚度，如氮化硅、氧化铝等，以确保太阳能电池的效率和可靠性。
还可以测量蓝宝石镀膜、ITO 玻璃、汽车硬度层厚度等其他介质膜厚度。
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晶诺微反射式膜厚测量仪
晶诺微 Quasar R100是一款体积小巧的光谱反射式膜厚、折射率测量仪器，操作简单，极易上手。Quasar R100软件还拥有丰富的的材料数据库，客户还可以通过软件及自带数据库对材料，菜单进行管理，并具有丰富的数据查看、统计功能。
产品特点：
a．各种尺寸样品测量：可测量如4-12英寸的晶圆及其他各种不规则形状样品；b．测量精度和稳定性高：产品测量重复性和稳定性极高；
c．多参数测量：可测量材料厚度、折射率、吸收系数和反射率等；
d．操作简单且功能丰富：用户无需过多培训即可轻松掌握测量流程及建立菜单，数据查看、统计和分析功能丰富。
产品规格：
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