聚焦离子束显微镜(FIB-SEM)作为一种前沿的微观分析与加工工具,将聚焦离子束(FIB)和扫描电子显微镜(SEM)技术深度融合,兼具高分辨率成像和精密微加工能力,广泛应用于材料科学、电子工业、生命科学及纳米技术等领域,成为现代科研与工业不可或缺的重要设备。


FIB-SEM工作原理


FIB-SEM系统巧妙地整合了两种互补的技术,实现了材料的高精度成像与加工。其中,FIB技术利用电透镜将液态金属离子源产生的离子束进行加速和聚焦,作用于样品表面,能够实现纳米级的铣削、沉积、注入和成像操作。这种技术可以对材料进行精准的微观加工,为后续的分析和研究提供理想的样品形态。


而SEM部分则通过电子枪发射电子束,经电磁透镜加速和聚焦后,与样品相互作用产生多种信号,如二次电子和背散射电子。这些信号蕴含着样品的物理和化学特性信息,包括形貌、成分和晶体结构等。通过对这些信号的检测和分析,研究人员可以直观地了解样品的微观结构和性质。


FIB与SEM的协同工作是FIB-SEM系统的核心优势。在实际操作中,FIB可以对样品进行加工和改造,而SEM则实时监控加工过程,确保加工的精度和效果。这种“观察-加工-分析”的全链条能力,使得FIB-SEM能够在微观尺度上实现对材料的全方位研究和改造。


FIB-SEM主要应用领域


1.截面分析


截面分析是FIB-SEM的典型应用之一,通过在样品表面挖出一个垂直于表面的截面,可以详细研究样品的内部结构。这种技术广泛用于分析多层结构的厚度、夹角和组成成分。


例如,在半导体制造中,FIB-SEM被用于检测光刻胶层的厚度和均匀性,同时通过附带的能量色散X射线光谱(EDS)系统进行元素成分分析。


随着集成电路从中小规模向大规模、超大规模甚至系统级芯片发展,失效分析对技术精度的要求日益提高,而FIB-SEM能够满足纳米级别的分析需求,为半导体产业的发展提供了重要的技术支持。

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2.FIB-TEM样品制备


透射电子显微镜(TEM)是一种能够观察材料微观结构的高分辨率工具,但对样品厚度要求极高,通常在100纳米以下。然而,绝大多数固体样品无法直接满足TEM的要求,这时就需要借助FIB-SEM的精准加工能力来制备超薄样品。


制备过程通常包括以下几个典型步骤:


首先,在样品的关键区域进行保护性涂层沉积,以避免制样过程中由高能离子束引起的表面损伤;然后,使用FIB技术对样品进行初步铣削;

最后,通过精细铣削将样品厚度进一步降低至TEM可用的标准。通过这种方式制备的样品,能够为TEM表征提供理想的微观结构信息,从而推动材料科学等领域的深入研究。


结论



FIB-SEM作为一种高端的微观分析与加工设备,凭借其独特的双束协同工作模式和强大的功能,在材料科学、电子工业、生命科学以及纳米技术等领域发挥着重要作用。随着技术的不断进步,FIB-SEM将在微观世界的研究中发挥更加重要的作用。