阿常

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华大九天EDA软件正在补全国产CPU设计工具短板

2021-5-4 13:29:39 显示全部楼层
美国限制我国CPU技术发展的手段总体上分为两种,一是设计,二是制造。在制造方面美国主要禁止了使用美国技术的芯片代工厂为我国部分企业生产7nm及以下工艺的芯片,部分企业的14nm芯片生产也受到限制。而在CPU设计方面,美国则有更加丰富的限制手段,比如CPU指令集授权、IP授权、专利壁垒、EDA工具等等,国内部分企业和机构已经被禁止使用美国的EDA工具软件。

龙芯和申威使用自主设计的CPU指令集,且在长期的设计实践积累了大量的CPU设计经验,其中龙芯在CPU技术方面已经注册了七百余项专利,在全球重点国家和地区也形成了专利布局。LoongArch指令集也提前完成了专利布局,并已经完成知识产权评估的国内部分。因此美国能对我国自主CPU设计方面下手的基本上只剩下了EDA工具。

EDA工具软件可大致可分为芯片设计辅助软件、可编程芯片辅助设计软件、系统设计辅助软件等三类。国产的EDA工具软件由于起步较晚,技术积累和资金投入不足等原因,一直落后于国际水平,但近几年随着对这类基础软件的投入加大,技术人员也在危机感、使命感的驱动下加班加点研究,使国产的EDA软件与世界先进水平正在迅速拉近。

华大九天的EDA设计工具

4月25日,第四届数字中国建设峰会开幕,在“国有企业数字化转型论坛”上,中国电子华大九天凭借多年的EDA技术积累,同时结合人工智能技术,最新发布华大九天EDA工具系统V2021.3版本。该版本突破了数十项关键技术,优化了数百个复杂算法,产品的功能、性能、容量及可靠性等方面都得到了极大的提升。该版本整体可以支持28nm工艺制程,部分工具可以支持14nm和7nm工艺制程。

也就是说对于28nm的工艺制程的芯片设计,我国已经有了全套的设计工具,如果以28nm的工艺设计CPU,美国已经不能再施加限制。对于14nm和7nm的工艺制程,虽然尚未形成完整设计流程的支持,但也得到了部分解决。在软件方面,只要有足够的投入,进步速度肯定比光刻机这类对精密制造严重依赖的硬件设备更快,有理由相信整体支持7nm工艺制程的国产EDA软件不会让我们等待很长的时间。

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华大九天自主研发的模拟/数模混合设计全流程EDA工具系统,成为全球四大模拟EDA全流程系统之一,其中电路仿真工具达国际先进水平,被国外权威媒体评为“全球最佳电路仿真工具”。中国电子将依托EDA工具系统的持续升级换代,为我国集成电路产业的健康发展起到重要的支撑和保障作用。


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