据财新网报道，10月14日，ASML首席财务官达森（Roger Dassen）在发布三季报时作出回应，“一般而言，从荷兰向这些客户运送DUV光刻机系统不需要向美国申请出口许可。而涉及直接从美国运往这些客户的系统或者零件，则需要获得出口许可”。

但ASML并未提到更先进的EUV（极紫外）光刻机。也就是说，DUV的规则不适用于EUV光刻机，ASML必须获得许可证才有可能向中国企业出口EUV光刻机。

DUV光刻机与EUV光刻机什么区别？
中低端与高端的区别。DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）。从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。

必须要用EUV的，是5nm以及以下，直到7nm，DUV都够用。

EUV的价格是1-3亿美金/台，DUV的价格为2000万-5000万美金/台不等。