大家有没有想过，不管是台积电还是三星的晶圆厂，为何内部无尘室大都使用黄光？而不是白光或其他颜色的光？原来这跟半导体制程的关键步骤有关。

无尘室（Cleanroom）排除掉空间范围内空气中的微尘粒子等污染物，获得一个相当洁淨的环境，常用于高精度制造的产业，包括半导体制造、生物技术、精密机械、医疗等，其中以半导体业对室内温湿度、洁淨度要求最为严格、必须控制在某个需求范围内，才不会对制程产生影响。

半导体无尘室之所以使用黄光，主要跟微影制程（photolithography）有关，他是半导体制造中的关键步骤之一，利用光线穿透印有电路图的光罩及光阻，在硅晶片上投印出电路图。

在这个过程中，会将有二氧化硅绝缘层的硅晶圆涂上光阻，并于上方套上光罩（特定位置中有洞），透过紫外光照射，被光照过的光阻会变得容易溶解，将特定位置的光阻以显影液溶解掉，再进行蚀刻，就只蚀刻到特定位置的二氧化硅，其他地方则被光阻保护。等蚀刻完毕，清除掉剩馀的光阻，就完成微影制程。

由于微影制程所使用的光阻剂，是由树脂、溶剂和添加剂组成，大部分的光敏感范围皆在 450nm 以下，即对频率高于黄光的蓝光、紫外线敏感，只要光线波长在 500nm 以上，就不会引起不必要的反应或变化，而黄光波长介于 560 nm 至 590 nm 之间，光阻剂对这个波长较不敏感，比较不会造成提早曝光及误曝的情况。