分析高数值孔径物镜的聚焦特性
时间:2019-11-25 16:41来源:讯技光电作者: 技术部点击:170次打印
摘要

高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。

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建模任务

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概述

•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。

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光线追迹仿真

•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。
•单击go！
•获得了3D光线追迹结果。

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光线追迹仿真

•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
•单击go！
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。

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场追迹仿真

•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
•单击go！

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场追迹仿真（相机探测器）

•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。

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场追迹仿真（电磁场探测器）
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。

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场追迹仿真（电磁场探测器）

•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。

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文件信息

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